Tibco News, le 30 juin, le gouvernement néerlandais a publié les dernières réglementations sur le contrôle des exportations d'équipements semi-conducteurs, certains médias ont interprété cela comme le contrôle de la photolithographie contre la Chine s'étendant à nouveau à tous les DUV.En fait, ces nouvelles réglementations de contrôle des exportations ciblent les technologies avancées de fabrication de puces de 45 nm et moins, notamment les équipements de pointe de dépôt atomique ALD, les équipements de croissance épitaxiale, les équipements de dépôt par plasma et les systèmes de lithographie par immersion, ainsi que la technologie et les logiciels utilisés. d'utiliser et de développer des équipements aussi avancés.
Dans une déclaration à Tibco, ASML a souligné que les nouvelles réglementations de contrôle des exportations du gouvernement néerlandais ne couvrent que certains des derniers modèles DUV, notamment le TWINSCAN NXT:2000i et les systèmes de lithographie par immersion ultérieurs.La lithographie EUV a été restreinte auparavant et l'expédition d'autres systèmes n'est pas contrôlée par le gouvernement néerlandais.Selon les informations du site officiel d'ASML, le système de lithographie par immersion DUV, comprenant : TWINSCAN NXT : 2050i, NXT : 2050i, NXT : 1980Di, trois machines de lithographie, peuvent effectuer un traitement de tranches de 38 nm à 45 nm.
De plus, les machines de lithographie sèche DUV capables de traiter des tranches au-dessus de 45 nm, telles que les processus 65 nm ~ 220 nm, tels que TWINSCAN XT : 400L, XT : 1460K, NXT : 870, etc., ne sont pas incluses dans la liste des sanctions néerlandaises.
La liste de contrôle néerlandaise, telle que traduite par Tibco, est la suivante :
Le règlement MinBuza.2023.15246-27 émis par le ministre du Commerce extérieur et de la Coopération au développement des Pays-Bas prévoit des exigences en matière de licences pour l'exportation d'équipements de production avancés de semi-conducteurs non mentionnés précédemment à l'annexe I du règlement n° 2021/821 (relatif aux semi-conducteurs avancés). équipement de fabrication)
Article 2 : Ce règlement interdit l'exportation d'équipements avancés de production de semi-conducteurs depuis les Pays-Bas sans l'autorisation du ministre.
Article 3 :
1. La demande d'autorisation mentionnée à l'article 2 est présentée par l'exportateur et soumise au procureur.
2. Dans tous les cas, la demande doit contenir :
a) le nom et l'adresse de l'exportateur ;
b) Nom et adresse du destinataire et de l'utilisateur final de l'équipement de fabrication de semi-conducteurs avancé ;
c）Nom et adresse du destinataire et de l'utilisateur final de l'équipement de fabrication de semi-conducteurs avancés.
3, dans tous les cas, le procureur a le droit de demander à l'exportateur de fournir le contrat d'exportation et une déclaration sur l'utilisation finale.
Article 4 :
La licence décrite à l'article 2, peut être soumise à des conditions et dispositions.
L'octroi de la licence décrite à l'article 2 peut exister sous réserve.
Article V :
Les licences mentionnées à l'article II peuvent être retirées dans les cas suivants :
a)La licence a été délivrée sur la base d'informations incorrectes ou incomplètes ;
b) Les termes, conditions et restrictions de la licence n'ont pas été respectés ;
c)Pour des raisons de politique étrangère et de sécurité nationale.
Heure de publication : 02 juillet 2023